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立式旋转腔 PVD镀膜设备
立式旋转腔 PVD镀膜设备
立式旋转腔 PVD镀膜设备

立式旋转腔 PVD镀膜设备

特点描述

立式旋转腔设计，减少设备长度，减少占地面积；
2800mm平面阴极，大幅宽大产能设备设计；
智能化工艺程序管理，实时数据记录。

规格书

技术性能

  • 基板大小：1200mm*2400mm*2.2~3.2mm；
  • 节拍：35s；
  • 工艺速度：40mm/s;
  • 碎片率<0.1%；
  • 无效边区域<5mm;
  • 片间/片内均匀度<5%。

技术参数

设备尺寸：43700mm*11480mm*5200mm（含自动化）

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