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赛事投注

电池片硅片自动化设备

HTBC去PSG清洗机

特点描述

双下槽设计,快速切换,大大降低了换液时间
精准带液滚轮,稳定的药水带液量
多道水洗并联,保证清洗效果的同时提高纯水利用率

技术性能

  • 产能≥16000 wafer/hour,182B & 210B
  • 传动速度:1.0-5.0m/min
  • 操作速度:4.5m/min
  • 碎片率:<0.5‰
  • 正常运行时间Uptime:≥98%
  • 清洗流程:水膜→去PSG→Rinse→DRY

其他产品

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